前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材，可能还需要进行等离子体处理。
种子层沉积：采用化学镀或物相沉积（PVD）方法，在基板表面形成一层薄的导电种子层，通常为铜或镍，厚度约 0.1-0.5μm。
图形电镀：通过光刻技术定义线路图形，然后对图形区域进行电镀加厚，如镀铜至 5-15μm，以形成导线主体。对于高频高速线路板，常采用脉冲电镀或周期反向电镀，以改善镀层结晶结构。
种子层沉积：构建导电基底
采用物相沉积（PVD）或化学镀，在绝缘基材表面沉积超薄导电层（铜或镍）。
种子层厚度控制在 0.1-0.5μm，要求覆盖均匀、无针孔，为后续图形电镀提供稳定导电通道。
沉积后需做简易附着力检测，避免种子层脱落影响后续工艺。
表面处理：提升可靠性与兼容性
非关键区域可做沉银、OSP 或沉锡处理，提升可焊性与抗氧化能力。
关键高频区域需保持金 / 银镀层洁净，可涂覆超薄有机防氧化剂，避免氧化导致信号损耗增大。
处理后需控制表面粗糙度 Ra<0.5μm，减少高频信号散射。